工业应用中的薄膜厚度是一个非常重要的参数，直接关系到该薄膜材料能否正常工作。如大规模集成电路的生产工艺中的各种薄膜，电路集成程度的不断提高，薄膜厚度的任何微小变化，对集成电路的性能都会产生直接的影响。
因此精确测量其厚度的方法是人们所迫切追求的，而在众多测量方案中，光学方法是应用最为广泛、测量最为精确的方法，它相对于其它类方法具有快速、准确和不损伤薄膜等优点。更多新闻内容请到我们的新闻版块：http://www.lqky.net/，本公司全体员工欢迎大家的咨询来访。
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